一种镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备方法，尤其涉及一种采用微弧氧化在镁合金表面生产陶瓷膜的方法，制备方法包括以下：除油-配液-连接-微弧氧化-水洗-吹干-封孔，其中配制微弧氧化溶液：在水中加入1～3g/L的氢氧化钾、5-10g/L的硅酸钠、0.5-1.5g/L的氟化钠和1～2g/L的六偏多聚磷酸钠，微弧氧化的工艺参数为：温度：5℃-10℃、电流密度：2.5-3.5A/dm²、时间：20min～30min、频率：30-2000HZ、占空比：正负向50%，采用本微弧氧化技术对镁合金进行表面陶瓷化处理，具有工艺过程简单，占地面积小，工艺处理能力强，生产效率高，适用于批量工业化生产等优点。

主权项

一种镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备方法，其制备方法包括以下步骤：（1）除油：将零件的待微弧氧化表面采用M600^#及M800^#的砂纸进行打磨，待表面粗糙度为10‑35um后，采用硫酸浓度为140‑200g/L的溶液，对打磨后的待微弧氧化表面进行浸泡、擦洗，常温条件下，浸泡时间为3min，将表面的油污除净，得到无油污的待微弧氧化表面A；（2）配制微弧氧化溶液：在水中加入1～3g/L的氢氧化钾、 5‑10g/L的硅酸钠、0.5‑1.5g/L的氟化钠和1～2g/L的六偏多聚磷酸钠，并充分溶解，得到微弧氧化溶液，将其再加入微弧氧化主槽；（3）连接：将待微弧氧化表面A全部浸入微弧氧化槽液中，用导线将零件和微弧氧化设备的阳极连接；（4）进行微弧氧化:微弧氧化的工艺参数为：电源模式：                        恒电流模式；温度：                            5℃‑10℃；电流密度 ：                       2.5‑3.5A/dm²；时间 ：                           20min～30min；频率：                            30‑2000HZ；占空比 ：                         正向50%，负向50%；阴极 ：                           不锈钢板；搅拌形式：                        压缩空气式搅拌；微弧氧化过程中，采用工业酒精进行循环冷却控制槽液温度，微弧氧化完成后，将零件卸下，并进行水洗、吹干，并采用SYS‑802中温无氟封孔剂对微弧氧化后的微孔进行封孔，得到最终的镁合金微弧氧化陶瓷膜。