发明名称 |
原位水汽生成工艺实时检测方法 |
摘要 |
一种原位水汽生成工艺实时检测方法,包括:采用Quantox测量机台对多层膜结构中总的氧化层厚度进行多次测量,分别记录所测量的氧化层厚度和对应的氧化时间;根据所述氧化层厚度T与所述氧化时间t的关系满足线形关系:T=k*t+m,判断所测量的氧化层厚度T与对应的氧化时间t是否满足相同的线形关系;若所测量的多个氧化层厚度T与其对应的氧化时间t不满足相同的线形关系,对氧化层的生长进行调整,并重复上述步骤,直至氧化层厚度T与其各自对应的氧化时间t满足相同的线形关系。本发明相对于常规的光学检测方法,能够有效地对原位水汽生成工艺是否稳定进行判断和监控,不仅实施简便,而且结果更加稳定和精确,尤其对多层膜结构更为有效。 |
申请公布号 |
CN102427045B |
申请公布日期 |
2016.06.01 |
申请号 |
CN201110342051.9 |
申请日期 |
2011.11.02 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
张永福;许忠义 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种原位水汽生成工艺实时检测方法,其特征在于,包括:采用Quantox测量机台对多层膜结构中总的氧化层厚度进行多次测量,并分别记录所述氧化层厚度及其对应的氧化时间;根据所述氧化层厚度T与所述氧化时间t的关系满足:T=k*t+m,k是所述氧化层厚度T相对于所述氧化时间t的线形比率,m值与膜层结构有关,判断在随后的生产中所测量的氧化层厚度T与对应的氧化时间t是否满足相同的线形关系;若所测量的多个氧化层厚度T与其对应的氧化时间t不满足相同的线形关系,对氧化层的生长进行调整,并重复上述步骤,直至氧化层厚度T与其各自对应的氧化时间t满足相同的线形关系;所述判断所测量的氧化层厚度T与对应的氧化时间t是否满足相同的线形关系包括:分别根据所测量的氧化层厚度T和对应的氧化时间t计算其对应的线形比率k,当所计算的线形比率k相同时,则所述氧化层厚度T与对应的氧化时间t满足相同的线形关系;或所述判断所测量的氧化层厚度T与对应的氧化时间t是否满足相同的线形关系包括:根据所测量的任意两组氧化层厚度及其对应的氧化时间的值,绘出线性曲线;当所测量的其它氧化层厚度及其对应的氧化时间落在所绘出的线性曲线或其延长线上时,则氧化层厚度T与对应的氧化时间t满足相同的线性关系;所述测量的多组氧化层厚度T与其对应的氧化时间t不满足相同的线形关系包括:各组氧化层厚度T与其对应的氧化时间t之间的线性比率相差很大。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 |