发明名称 METHOD OF MAKING A SPUTTER TARGET AND SPUTTER TARGETS MADE THEREBY
摘要 BCC 금속 또는 BCC 금속 합금으로부터 스퍼터 타겟을 제조하는 방법이 제공된다. 잉곳은 전자빔 용융되고 진공 아크 감소를 받게 된다. 잉곳은 이어서 3축 단조되어, 3축 단조 단계 중에 잉곳의 중심선을 잉곳의 중심에 유지한다. 잉곳은 이어서 진공 어닐링되고 시계방향 압연된다. 시계방향 압연 중에, 잉곳의 중심선은 잉곳의 중심에서 시계방향 롤링 중에 사용된 압축력에 수직으로 유지된다. 시계방향 롤링된 잉곳은 이어서 진공 어닐링되고 스퍼터 타겟으로서 사용을 위한 거의 전체 형상으로 제공된다. 적어도 99.5%의 순도 및 약 25 ppm 미만의 틈새 함량(CONH)을 갖는 탄탈 타겟 재료가 개시된다. 탄탈 타겟은 본 발명에 따르면 약 50 내지 100 미크론의 입경 및 중심을 향해 더 높은 %의 {111} 구배를 갖는 혼합된 {100}/{111} 조직을 갖는다.
申请公布号 KR101626286(B1) 申请公布日期 2016.06.01
申请号 KR20117010028 申请日期 2009.11.03
申请人 토소우 에스엠디, 인크 发明人 홀콤 엠. 커크;스마터스 데이빗 비.
分类号 B21B1/02;C22C27/02;C22F1/18;C23C14/34 主分类号 B21B1/02
代理机构 代理人
主权项
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