发明名称 METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRICALLY-CONDUCTIVE FILM
摘要 저저항화된 투명 도전층을 보다 고속으로 성막 가능한 투명 도전성 필름의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은, 기재 필름 상에 인듐-주석 복합 산화물을 함유하는 타깃으로부터 투명 도전층을 스퍼터법에 의해 형성하는 공정을 포함하는 투명 도전성 필름의 제조 방법으로서, 상기 스퍼터법은, 스퍼터 성막 장치에 있어서의 1 개의 스퍼터실당 2 개 구비된 상기 타깃에 각각 DC 전원을 접속하여 실시하는 DC 듀얼 타깃 스퍼터법이다.
申请公布号 KR20160061961(A) 申请公布日期 2016.06.01
申请号 KR20167001691 申请日期 2014.09.24
申请人 NITTO DENKO CORPORATION 发明人 NASHIKI TOMOTAKE;KATO HISATO;BEPPU HIROSHI;KAJIHARA DAISUKE;TAKAMI YOSHIHITO
分类号 C23C14/34;C23C14/08;C23C14/56 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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