新型吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物

摘要

本发明提供一种由以下化学式1表示的吸光剂及含有它的用于形成有机抗反射膜的组合物，该吸光剂对需要形成微细图案的光刻过程、特别是利用248nmKrF准分子激光形成超微细图案的光刻过程中曝光时所产生的反射光具有优异的吸收性，并有用于形成有机抗反射膜及利用它形成半导体元件的微细图案，化学式1在上述式中，各取代基与说明书中所定义的相同。

主权项

一种吸光剂，包括由下列化学式3d表示的化合物：其中，在上述化学式3d中，A为单键结合或者碳原子数为1至10的亚烷基，Ra至Rd各自独立地为氢原子或者碳原子数为1至10的烷基，m₁及m₂各自独立地为1至10的整数，以及R_7a及R_7b各自独立地为由下列化学式4表示的官能团：其中，在上述化学式4中，R’、R”及R”’各自独立地为选自由氢原子、碳原子数为1至10的烷基、碳原子数为3至30的环烷基、碳原子数为6至30的芳基、卤基及它们的组合所组成的组中的任意一种，以及p为0至4的整数，q为0至2的整数，r为0至4的整数，p+q+r≤9。