光刻设备和平台系统

摘要

本发明公开了一种光刻设备和平台系统。所述平台系统包括：物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；和长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围。平台系统还包括气动补偿装置，气动补偿装置包括：传感器，布置成测量表示在所述短行程致动器元件上的气动扰动力的量；致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿所述气动扰动；和控制器。传感器连接至控制器的控制器输入，致动器连接至控制器的控制器输出，控制器布置成响应于从传感器接收的信号来驱动致动器。

主权项

一种平台系统，包括：物体台，构造成保持物体；短行程致动器元件，构造成在第一移动范围上对所述物体台移位；长行程致动器元件，构造成在第二移动范围上对所述短行程致动器元件移位，所述第二移动范围大于所述第一移动范围，和气动补偿装置，包括：传感器，布置成测量表示所述平台系统的元件上的气动扰动力的量，致动器，布置成提供补偿力，以至少部分地补偿气动扰动，和控制器，布置成响应于从传感器接收的信号来驱动所述致动器，其中所述传感器连接至所述控制器的控制器输入，所述致动器连接至所述控制器的控制器输出；其中，所述传感器包括加速度计，以及所述控制器包括估计器，所述估计器布置成根据由所述加速度计测量的加速度确定引起所述气动扰动的压力变化；其中，所述加速度计设置在所述物体台的弯曲模式或扭曲模式的腹点位置处。