| 发明名称 | 具有大规模制造设计的盒 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于样品的光学检查的盒（110）和检查设备（100）。所述盒（110）包括：透明底层（113），其厚度基本一致；以及顶层（111，112），包括样品室（SC）。底层和顶层优选地层压在彼此之上，例如以卷到卷工艺。底层（113）设置有容许光的耦入或耦出的例如光栅（115）的结构。 | ||
| 申请公布号 | CN102985804B | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201180033853.X | 申请日期 | 2011.07.05 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | J·J·H·B·施莱彭;A·H·J·伊明克;M·W·J·普林斯;D·J·W·克隆德 |
| 分类号 | G01N21/03(2006.01)I;G01N21/77(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;A61B5/00(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/03(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 舒雄文;蹇炜 |
| 主权项 | 一种用于样品的光学检查的盒(110‑510)，包括：a)透明底层(113‑513)，其厚度的变化小于10％；b)至少一个顶层(111‑511，112‑512)，其布置在所述底层之上并且包括样品室(SC)，所述样品能够设置在所述样品室中；其中，所述底层(113‑513)包括光输入结构(115‑515)，所述光输入结构(115‑515)用于将输入光束(L1)耦合到所述盒中并用于将所述输入光束(L1)引导至所述样品室(SC)，所述光输入结构(115‑515)设计为使得通过此结构的光的至少部分在至所述样品室(SC)的界面处被全内反射。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||