| 发明名称 | 光刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种光刻设备，其特征在于，包括：一基础平台，以及位于所述基础平台上的工件台、掩模台、工件台驱动装置、掩模台驱动装置和平衡质量，所述平衡质量分别连接所述工件台驱动装置和掩模台驱动装置，用以实现所述光刻设备扫描曝光过程中所述工件台和掩模台的同步反向运动。 | ||
| 申请公布号 | CN105629669A | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201410604047.9 | 申请日期 | 2014.11.03 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 徐伟;单世宝 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅 |
| 主权项 | 一种光刻设备，其特征在于，包括：一基础平台，以及位于所述基础平台上的工件台、掩模台、工件台驱动装置、掩模台驱动装置和平衡质量，所述平衡质量分别连接所述工件台驱动装置和掩模台驱动装置，用以实现所述光刻设备扫描曝光过程中所述工件台和掩模台的同步反向运动。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||