发明名称 |
阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置 |
摘要 |
本发明提供了一种阵列基板、薄膜晶体管、显示器件的制作方法、显示装置,其中的阵列基板包括基板和依次形成在基板上的栅极金属层、绝缘层和源漏极金属层;其中,栅极金属层由至少两个依次层叠的图案化金属膜层构成;至少两个依次层叠的图案化金属膜层在同一种金属刻蚀液下的刻蚀速率沿着背离基板的方向逐层增大;至少两个依次层叠的图案化金属膜层的膜层面积沿着背离基板的方向逐层减小。基于此,本发明可以改善源漏极金属层中由栅极金属层边缘处的坡度角所导致的内部缺陷,有利于提升良率、降低生产成本。 |
申请公布号 |
CN105633102A |
申请公布日期 |
2016.06.01 |
申请号 |
CN201610206911.9 |
申请日期 |
2016.04.05 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
宁云龙;杨志 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李相雨 |
主权项 |
一种阵列基板,其特征在于,包括:基板和依次形成在所述基板上的栅极金属层、绝缘层和源漏极金属层;其中,所述栅极金属层由至少两个依次层叠的图案化金属膜层构成;所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层在同一种金属刻蚀液下的刻蚀速率沿着背离所述基板的方向逐层增大;所述至少两个依次层叠的图案化金属膜层的膜层面积沿着背离所述基板的方向逐层减小。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |