发明名称 MIRROR, MORE PARTICULARLY FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
摘要 본 발명은 특히, 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치를 위한 거울에 관한 것이다. 본 발명에 따른 거울(10)은 광학적 활성 표면(11)과, 거울 기판(12)과, 광학적 활성 표면(11) 상에 충돌하는 전자기 방사선을 반사하기 위한 반사 층 스택(21)과, 반사 층 스택(21)의 적층 방향으로 거울 기판(12)과 반사 층 스택(21) 사이에 연속적으로 배열되고 국부적으로 변화 가능한 변형을 생성하는 전기장이 가해질 수 있는 적어도 2개의 압전 층(16a, 16b, 16c)을 포함하고, 결정질 재료로 구성되는 적어도 1개의 중간 층(22a, 22b)이 상기 압전 층(16a, 16b, 16c) 사이에 배열되고, 중간 층(22a, 22b)은 이것이 반사 층 스택(21)의 적층 방향으로 중간 층(22a, 22b)에 인접한 압전 층(16a, 16b, 16c)의 영역 내에 존재하는 전기장을 실질적으로 영향을 받지 않는 상태로 남기는 방식으로 설계된다.
申请公布号 KR20160062007(A) 申请公布日期 2016.06.01
申请号 KR20167007654 申请日期 2014.08.18
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 GRUNER TORALF;HILD KERSTIN
分类号 G02B5/08;G03F7/20;G21K1/06;H01L41/18;H01L41/187 主分类号 G02B5/08
代理机构 代理人
主权项
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