| 发明名称 | 聚合物、化学增幅负抗蚀剂组合物和图案形成方法 | ||
| 摘要 | 提供了包含侧链上具有N，N’-双(烷氧基甲基)四氢嘧啶酮或N，N’-双(羟甲基)四氢嘧啶酮结构的重复单元的聚合物。当使用该聚合物配制化学增幅负抗蚀剂组合物并通过光刻加工时，可以形成具有改善的LER和高分辨率优点的精细抗蚀剂图案。 | ||
| 申请公布号 | CN102516453B | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201110316698.4 | 申请日期 | 2011.07.28 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 增永惠一;渡边聪;田中启顺 |
| 分类号 | C08F220/36(2006.01)I;C08F212/32(2006.01)I;C08F220/30(2006.01)I;C08F232/08(2006.01)I;C08F212/14(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | C08F220/36(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 李帆 |
| 主权项 | 聚合物，其包含至少一种选自由通式(1)和(2)表示的侧链上具有N,N’‑双(烷氧基甲基)四氢嘧啶酮或N,N’‑双(羟甲基)四氢嘧啶酮结构的重复单元的重复单元，基于该聚合物的全部重复单元，具有式(1)和/或(2)的重复单元的含量为1‑40摩尔％，<img file="FDA0000899550620000011.GIF" wi="1334" he="806" />其中，A是氢、氟、甲基或三氟甲基，R<sup>1</sup>是氢或单价的直链、支链或环状C<sub>1</sub>‑C<sub>6</sub>烷基，R<sup>2</sup>彼此独立地是可以含有氧或卤素的单价的直链、支链或环状C<sub>1</sub>‑C<sub>6</sub>烷基，a是0到4的整数，且p是0到2的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||