一种图形化有机功能层的制备方法及应用

摘要

本发明提供的一种图形化有机功能层的制备方法，包括如下步骤：在基材上依次形成叠加设置的有机功能层，第一保护层和第二保护层，刻蚀掉部分第二保护层使部分所述第一保护层裸露；使裸露的所述第二保护层升华，从而使所述有机功能层裸露；将基板与所述基材对位后，再置于高温环境中使裸露的有机功能层转移至所述基板上。本发明提供的方法制备高分辨率OLED器件中的发光层时不需要精密掩膜板，从而降低生产成本和提高良率。

主权项

一种图形化有机功能层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S11：在基材(100)上依次形成叠加设置的有机功能层(101)，第一保护层(102)和第二保护层(103)，所述第一保护层(102)的升华温度低于所述有机功能层(101)的升华温度；S12：根据预设图案图形化所述第二保护层(103)，即刻蚀掉部分第二保护层(103)使部分所述第一保护层(102)裸露；S13：将所述步骤S12的产品置于第一高温环境中使裸露的所述第一保护层(102)升华，从而使所述有机功能层(101)裸露；所述的第一高温环境的温度高于所述第一保护层(102)的升华温度且低于所述机功能层(101)的升华温度；S14：将基板(104)与所述基材(100)对位后，再置于第二高温环境中使裸露的有机功能层(101)转移至所述基板(104)上，所述第二高温环境的温度高于所述有机功能层(101)的升华温度。