| 发明名称 | 用于通过x射线束的散射来分析样品的光学设备及相关的准直设备和准直仪 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于X射线束的准直设备、用于通过X射线束的散射来分析样品(105)的光学设备以及用于X射线束的准直仪。该准直设备包括意图在真空或受控气氛下的外壳(110)，该外壳(110)具有用于射束的入口(120)和出口(121)及由具有衍射周期性结构的材料制成的至少一个板(104)，所述板(104)具有两个主面(104a，104b)和在所述面之间的至少一个加宽的孔(104c)。 | ||
| 申请公布号 | CN102971801B | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201180021391.X | 申请日期 | 2011.04.26 |
| 申请人 | 原子能与替代能源委员会 | 发明人 | 奥利维耶·塔谢;奥利维耶·斯帕拉 |
| 分类号 | G21K1/02(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 杨生平;钟锦舜 |
| 主权项 | 一种用于X射线束的准直设备，其特征在于其包括意图被放置在真空或受控气氛下的外壳(110)，该外壳(110)包括用于射束的入口(120)和出口(121)以及由具有衍射周期性结构的材料制成的至少一个板(104)，所述板(104)包括两个主面(104a，104b)和在所述主面之间加宽的至少一个孔(104c)；其中，所述板(104)由单晶材料制成。 | ||
| 地址 | 法国巴黎 | ||