RADIATION SOURCE LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

리소그래피 장치가 원하는 방사선 및 원치않는 방사선을 포함하는 방사선 빔을 생성하도록 구성된 소스, 방사선 빔을 컨디셔닝하고 리소그래피 장치의 작동 중에 수소를 수용하도록 구성된 조명 시스템, 및 패터닝 디바이스를 유지하도록 구성된 지지 구조체를 포함한다. 패터닝 디바이스는 패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위하여 방사선 빔의 단면에 패턴을 갖는 방사선 빔을 부여할 수 있다. 기판 테이블은 기판을 유지하도록 구성되고, 투영 시스템은 패터닝된 방사선 빔을 기판의 타겟부 상으로 투영시키도록 구성된다. 리소그래피 장치는 투영 시스템에 들어오는 방사선 빔이 플라즈마에 의해 생성되는 적어도 50 %의 원치않는 방사선을 포함하고, 수소 라디칼을 생성하도록 수소 기체와 상호작용하는 방사선의 파장을 포함하도록 구성된다.