| 摘要 |
마이크로파 플라즈마를 산출하는 수단, 및 마이크로파 플라즈마로 반도체 기판을 처리하기 위한 수단 및 방법이 제공된다. 마이크로파 플라즈마 수단은 하나 이상의 전극(21, 22, 23)을 포함하며, 전극(21, 22, 23)은 전기 전도성 있는 물질로 만들어진 동축 내부 전도체(21)를 포함하고 전기 전도성 있는 물질로 만들어지며 상기 동축 내부 전도체에서 이격되어 상기 동축 내부 전도체를 적어도 부분적으로 둘러싸는 동축 외부 전도체(22)를 포함하고, 상기 동축 내부 전도체(21)에 연결되는 플라즈마 점화 수단(23)을 포함하며, 상기 동축 외부 전도체(22)는 상기 동축 외부 전도체가 상기 동축 내부 전도체의 길이 방향 축을 따라 상기 동축 내부 전도체를 완전하게 둘러싸는 하나 이상의 제1 부분 영역(31)을 포함하고, 상기 동축 외부 전도체는 동축 외부 전도체가 동축 내부 전도체(21)를 부분적으로 둘러싸는 하나 이상의 추가 부분 영역(32)을 포함하며, 이에 따라, 하나 이상의 전극(21, 22, 23)이 마이크로파 생성기(20)에 연결될 때에, 마이크로파 생성기(20)에 의해 생성된 마이크로파 방사가 하나 이상의 추가 부분 영역(32)에서 동축 내부 전도체(21)의 길이 방향 축과 실질적으로 평행하게 빠져나갈 수 있게 되는 것을 특징으로 한다. |
