| 摘要 |
본 발명은, 연마 헤드 본체의 하부에, 원반상의 중판에 유지되는 러버막과, 이 러버막 주위에 마련되는 원환상의 가이드링을 구비하고, 러버막의 하면부에 워크의 이면을 유지하고, 워크의 표면을 정반 상에 접합한 연마포에 슬라이딩 접촉시켜 연마하는 연마 헤드에 있어서, 가이드링의 하면이 연마 중에 연마포에 접촉되지 않도록 하여, 가이드링과 중판을 유지하고, 연마 헤드 본체와 탄성막을 통해 연결되는 베이스 부재를 가지고, 이 베이스 부재는, 그 상면의 일부가 연마 헤드 본체와 접촉함으로써 축방향의 변위가 제한되고, 또한 탄성막에 의해 연마 중에 연마 헤드의 회전축 둘레의 회전방향으로 변위 가능한 연마 헤드이다. 이에 따라, 워크의 연마에 있어서, 안정적으로 일정한 고평탄도, 고연마 마진 균일성을 얻을 수 있는 한편, 45nm 이상의 미소한 파티클이 적은 워크를 얻을 수 있으므로, 거친 연마 가공 공정에서도 마무리 연마 가공 공정에서도 사용 가능한 연마 헤드 및 연마 장치가 제공된다. |
