发明名称 揮発成分除去装置及びその使用のためのプロセス
摘要 揮発成分を含む粘性液体2を揮発成分除去するように構成された静的揮発成分除去装置1が開示される。装置1は、第1の揮発成分除去ステップにおいて粘性液体2を処理して第1の揮発成分除去済粘性液体21を形成するための、上部領域5内の相分離チャンバ100を備え、分配器サブユニット200が相分離チャンバ100の下方及び下部サンプ領域4の上方に位置する。サブユニット200は、第1の揮発成分除去済粘性液体21により接触されるように具体化された第2の排出領域222を有し、領域222は、第1の揮発成分除去済粘性液体21が第2の揮発成分除去ステップにおいて処理されるように具体化された表面223を有する。本発明はさらに、装置1を使用して粘性液体を揮発成分除去するプロセス、及びポリマー・メルト又は溶液の揮発成分除去における装置1の使用に関する。
申请公布号 JP2016515038(A) 申请公布日期 2016.05.26
申请号 JP20150559450 申请日期 2014.02.03
申请人 スルザー ケムテック アクチェンゲゼルシャフト 发明人 ロヴィア、フランソワ
分类号 B01D1/00;B01D19/00 主分类号 B01D1/00
代理机构 代理人
主权项
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