- METHODS FOR SINGLE EXPOSURE-SELF-ALIGNED DOUBLE TRIPLE AND QUADRUPLE PATTERNING

摘要

방법은, 기판의 표면상에 패턴을 형성하는 단계 - 패턴은 표면에 대한 경사각을 정의하는 적어도 하나의 측벽을 포함하는 개별 구조물들, 및 재료 층이 사이에 보충된 개별 구조물들 중 하나를 포함하고, 재료 층은 표면에 대한 적어도 하나의 경사각에 의해 분리된 별개의 영역들로 변형된 볼륨을 포함함 -; 및 패턴을 이용하여 기판상에 회로 피처들을 정의하는 단계 - 피처들은 패턴의 피치보다 더 작은 피치를 가짐 - 를 포함한다.