物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

于基板(P)下方配置有对基板(P)下面喷出空气的多个空气悬浮单元(50)，并且基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。进一步地，基板(P)被定点载台(40)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光，且能使基板载台装置(PST)的构成简单化。

主权项

一种物体处理装置，其是对一平板状物体进行既定处理，该物体沿包含彼此正交的第1及第2轴的一既定二维平面配置，该物体处理装置具备：一执行装置，其在既定区域中对前述物体执行前述既定处理；一调整装置，其具有从下方以非接触状态支承前述物体中位于前述既定区域的第1部分的第1支承面，使前述第1支承面移动于与前述二维平面交叉的第3轴的平行方向，以调整前述第1部分的位置；一非接触支承装置，其具有与前述物体中位于前述既定区域外的第2部分对向的第2支承面，从下方以非接触方式支承前述第2部分；以及一驱动装置，其是在至少前述二维平面内的前述第1轴方向使前述物体移动，前述第1支承面与前述第2支承面，在前述第1轴方向中并排配置，而能使得前述物体从前述第1支承面与前述第2支承面中的一个支承面移动到另一个支承面，前述调整装置及前述非接触支承装置，是使前述第1支承面与前述第1部分间的气体压力和前述第2支承面与前述第2部分间的气体压力彼此不同来支承前述物体。