| 发明名称 | 光学薄膜用粘合剂层及其制造方法、粘合型光学薄膜及其制造方法、图像显示装置以及涂布液供给装置 | ||
| 摘要 | 一种光学薄膜用粘合剂层的制造方法，其特征在于，包括如下的工序：过滤工序，使用过滤精度为1～20μm的深层式过滤器，在压差超过0kPa且在150kPa以下的状态下对含有水分散型粘合剂的粘合剂涂布液进行过滤处理；涂布和干燥工序，涂布过滤处理后的所述粘合剂涂布液，然后进行干燥。 | ||
| 申请公布号 | CN103492512B | 申请公布日期 | 2016.05.25 |
| 申请号 | CN201280019993.6 | 申请日期 | 2012.04.20 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 塘口直树;石井孝证;卷幡阳介;增田友昭;柳成镇;诸星勉 |
| 分类号 | C09J7/02(2006.01)I;C09J201/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | C09J7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种光学薄膜用粘合剂层的制造方法，其特征在于，包括如下的工序：过滤工序，使用过滤精度为1～20μm的深层式过滤器，在压差超过0kPa且为150kPa以下的状态下对含有水分散型粘合剂的粘合剂涂布液进行过滤处理；涂布和干燥工序，涂布过滤处理后的所述粘合剂涂布液，然后进行干燥，所述粘合剂层不包含最大长度超过100μm的气泡和/或异物，并且，在所述粘合剂层的面上，最大长度为20μm以上的气泡和/或异物的个数为10个/m<sup>2</sup>以内。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||