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室温电沉积制备铝镁合金膜的方法，其特征在于，所述方法包括以下过程：镀液的制备：在充满氩气的手套箱中，按照摩尔比为2:1~3:1的比例，分别称取无水氯化铝和氢化铝锂；将氢化铝锂加入到四氢呋喃中，制得氢化铝锂的四氢呋喃溶液；将无水氯化铝加入到苯中，并在搅拌的情况下缓慢滴加四氢呋喃，随着四氢呋喃的加入，不溶的氯化铝逐渐溶解；最后缓慢滴加氢化铝锂的四氢呋喃溶液，边加边搅拌；此过程放出大量的热，要在冰水浴冷却条件下进行，待电解液温度至室温时，将其置于磁力搅拌器上混合搅拌3小时，该过程苯和四氢呋喃的体积比为4:1~4:3；镁带处理：将镁带依次用400、800和1200目的砂纸打磨光滑，接着进行化学除油，除去镁带表面的油污，再用稀硫酸进行预腐蚀及弱腐蚀除去氧化膜，然后进行水洗，水洗后放入真空干燥箱中干燥，待用；铜基体处理：将铜片依次用400、800和1200目的砂纸打磨光滑，接着进行化学除油，除去铜片表面的油污，再用稀硫酸进行预腐蚀及弱腐蚀除去氧化膜，然后进行水洗，水洗后放入真空干燥箱中干燥，待用；恒电流预电沉积：以镁带作阳极，铜片作阴极，控制电流密度为8‑20毫安/平方厘米，进行预电沉积，获得镁离子，预电沉积时间控制为1~2小时；恒电流电沉积：以石墨作阳极，铜片作阴极，控制电流密度为3‑15毫安/平方厘米，进行电沉积，即可获得纯净且颗粒大小均匀的铝镁合金膜。 |
