发明名称 形成图案化掺杂区的方法
摘要 本发明公开一种形成图案化掺杂区的方法,其包括:提供一基底;形成一第一型态掺杂材料于基底上;形成一第二型态掺杂材料于基底上,其中第一型态掺杂材料与第二型态掺杂材料相隔一间距;形成一覆盖层,覆盖基底、第一型态掺杂材料和第二型态掺杂材料;及进行一热扩散制作工艺,使第一型态掺杂材料和第二型态掺杂材料扩散入基底中。
申请公布号 CN103681948B 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201210411354.6 申请日期 2012.10.25
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 孙文檠;游胜闵;王泰瑞;林泽胜
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L21/22(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈小雯
主权项 一种形成图案化掺杂区的方法,包括:提供一基底;形成一第一型态掺杂材料于该基底上,其步骤包括:提供一包括一第一开口的第一掩模于该基底上;喷涂一第一型态掺杂材料于该第一掩模上且填入该第一开口中;进行一热制作工艺,使该第一型态掺杂材料形成胶态或固态的化合物;及移除该第一掩模;形成一第二型态掺杂材料于该基底上,其步骤包括:提供一包括第二开口的第二掩模于该基底上;喷涂一第二型态掺杂材料于该第二掩模上且填入该第二开口中;进行一热制作工艺,使该第二型态掺杂材料形成胶态或固态的化合物;及移除该第二掩模,其中该第一型态掺杂材料与该第二型态掺杂材料相隔一间距;形成一覆盖层,覆盖该基底、该第一型态掺杂材料和该第二型态掺杂材料;及进行一热扩散制作工艺,使该第一型态掺杂材料和该第二型态掺杂材料扩散入该基底中。
地址 中国台湾新竹县