发明名称 |
一种低溶剂残留的奥美沙坦酯的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种低溶剂残留的奥美沙坦酯的制备方法,包括:取奥美沙坦酯粗品,纯化结晶,预烘干;粉碎预烘干后的奥美沙坦酯;对粉碎后的奥美沙坦酯进行烘干。本方法可有效的去除奥美沙坦酯中的溶剂残留。 |
申请公布号 |
CN103951659B |
申请公布日期 |
2016.05.25 |
申请号 |
CN201410146427.2 |
申请日期 |
2014.04.11 |
申请人 |
烟台万润药业有限公司 |
发明人 |
孙宝佳;李强;王晔;相龙明;刘晓波;徐艳平;徐修祎 |
分类号 |
C07D405/14(2006.01)I |
主分类号 |
C07D405/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京轻创知识产权代理有限公司 11212 |
代理人 |
杨立 |
主权项 |
一种低溶剂残留的奥美沙坦酯的制备方法,其特征在于,包括:1)取奥美沙坦酯粗品,采用丙酮纯化结晶,将纯化结晶后的奥美沙坦酯使用鼓风干燥箱于≤40℃,压力≥‑0.08MPa的条件下真空干燥3h以上,经检测丙酮的溶剂残留为0.4%,2)向预烘干后的奥美沙坦酯中加入1%的无水乙醇,采用震动式超微粉碎机粉碎,预先将震动式超微粉碎机降温至‑10℃~0℃,3)对粉碎后的奥美沙坦酯于≤40℃,压力>‑0.08MPa的条件下采用真空干燥箱干燥2h以上,检测奥美沙坦酯的粉碎粒径与丙酮残留的对照关系,奥美沙坦酯粉碎至粒径D90=75μm或D90=60μm或D90=40μm或D90=20μm后进行烘干,丙酮残留均低于我国溶剂残留指导原则中的规定限度0.5%;粉碎至粒径D90=10μm,丙酮残留未检出。 |
地址 |
264000 山东省烟台市烟台开发区大季家工业园太原路60号 |