Verfahren zur Herstellung einer Mikrofonstruktur und einer Drucksensorstruktur im Schichtaufbau eines MEMS-Bauelements

摘要

Es wird ein Herstellungsverfahren für ein MEMS-Bauelement vorgeschlagen, mit dem sowohl eine Mikrofonstruktur (10) mit Mikrofonkondensator als auch eine Drucksensorstruktur (20) mit Messkondensator im MEMS-Schichtaufbau realisiert werden. Dabei werden die einzelnen Komponenten der Mikrofonstruktur (10) und der Drucksensorstruktur (20) parallel aber unabhängig voneinander in den Schichten des MEMS-Schichtaufbaus ausgebildet. Erfindungsgemäß wird die Drucksensormembran (21) aus einer ersten Schicht (3) herausstrukturiert, die als Sockelschicht für die Mikrofonmembran (11) fungiert. Die feststehende Gegenelektrode (23) des Messkondensators wird aus einer elektrisch leitfähigen zweiten Schicht (5) herausstrukturiert, die als Membranschicht der Mikrofonstruktur (10) fungiert. Und das feststehende Drucksensorgegenelement (22) wird aus einer dritten und einer vierten Schicht (6, 7) herausstrukturiert. Diese dritte Schicht (6) fungiert im Bereich der Mikrofonstruktur (10) als Opferschicht, deren Dicke im Bereich der Mikrofonstruktur (10) den Elektrodenabstand des Mikrofonkondensators bestimmt. Aus der vierten Schicht (7) wird das Mikrofongegenelement (13) herausstrukturiert.