发明名称 |
一种双光源镜面反射面测量系统 |
摘要 |
本发明公开了一种双光源镜面反射面测量系统,包括第一点光源阵列和记录由第一点光源阵列发出并经待测物件反射后的光线的摄像机,第一点光源阵列与待测物件间设有分光片,分光片的一侧设有第二点光源阵列,第二点光源阵列的光线依次经分光片和待测物件反射后投入摄像机。本双光源镜面反射面测量系统中,关键部件是分光片,通过使用分光片,可以在使用双光源定位法的同时避免了光源之间的相互遮挡,从而不需要使用机械装置移动光源,去除了机械装置带来的速度瓶颈。此外,双光源均采用点光源阵列,其可以达到很高的显示密度,从而对待测物件表面的法向量能够达到较高的测量精度,本发明结构简单,可广泛用于镜面反射的自动化测量领域。 |
申请公布号 |
CN103630541B |
申请公布日期 |
2016.05.25 |
申请号 |
CN201310625552.7 |
申请日期 |
2013.11.28 |
申请人 |
广州市香港科大霍英东研究院 |
发明人 |
徐彬;高福荣;姚科 |
分类号 |
G01N21/84(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/84(2006.01)I |
代理机构 |
广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 |
代理人 |
谭英强 |
主权项 |
一种双光源镜面反射面测量系统,其特征在于:包括第一点光源阵列和记录由所述第一点光源阵列发出并经待测物件反射后的光线的摄像机,所述第一点光源阵列与待测物件间设有分光片,所述分光片的一侧设有第二点光源阵列,所述第二点光源阵列的光线依次经分光片和待测物件反射后投入所述摄像机,当点亮第二点光源阵列,熄灭第一点光源阵列时,分光片将第二点光源阵列发出的光线反射到待测物件上,经待测物件反射后在摄像机看来等价于待测物件上镜面反射出第二点光源阵列的像,确定出第二点光源阵列的像的位置,当熄灭第二点光源阵列,点亮第一点光源阵列时,分光片透射第一点光源阵列发出的光线,经待测物件反射后在摄像机中可以看到第一点光源阵列成的像,确定出第一点光源阵列的位置,由于第一点光源阵列的像的位置和第二点光源阵列的位置已知,入射光方向即可确定,反射光方向可由摄像机投影原理确定,从而可以得到待测物件表面点的法向量和三维坐标。 |
地址 |
511458 广东省广州市南沙区南沙资讯科技园软件北楼 |