发明名称 一种光敏性抗腐蚀纳米材料及其制备方法
摘要 本发明提供了一种光敏性抗腐蚀纳米材料及其制备方法。制备方法如下:将正硅酸乙酯、无水乙醇、氨水和蒸馏水混合搅拌,加热后滴加四乙氧基硅烷得混合物A;将γ-氯丙基三氯硅烷和γ-氨丙基三乙氧基硅烷混合搅拌,滴加甲基丙烯酸缩水甘油酯和对羟基苯甲醚得混合物B;将B滴入A中反应,加入硬脂酸酰胺、柠檬酸和β-环糊精搅拌,再加入丙二醇甲醚醋酸酯进行旋转蒸发;将1-羟基环己基苯基甲酮、二甲基丙烯酸乙二醇酯、异丙基硫杂蒽酮和二缩三丙二醇二丙烯酸酯混合搅拌,再将所有组分混合,最后将溶液于覆铜板上显影。本发明的光敏性抗腐蚀纳米材料具有很高的光敏参数,对光的敏感性很强,热膨胀系数较低,热稳定性高,同时具有一定的耐腐蚀性。
申请公布号 CN105607423A 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201610162736.8 申请日期 2016.03.22
申请人 苏州捷德瑞精密机械有限公司 发明人 姚振红
分类号 G03F7/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/027(2006.01)I
代理机构 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 代理人 魏秀莉
主权项  一种光敏性抗腐蚀纳米材料,其特征在于:由以下成分以重量份制备而成:丙二醇甲醚醋酸酯1‑3份、甲基丙烯酸缩水甘油酯0.2‑0.5份、对羟基苯甲醚0.1‑0.2份、硬脂酸酰胺0.2‑0.5份、二缩三丙二醇二丙烯酸酯5‑10份、正硅酸乙酯1‑2份、二甲基丙烯酸乙二醇酯10‑20份、四乙氧基硅烷1‑2份、γ‑氯丙基三氯硅烷1‑3份、γ‑氨丙基三乙氧基硅烷1‑2份、1‑羟基环己基苯基甲酮2‑3份、异丙基硫杂蒽酮1‑2份、柠檬酸0.1‑0.2份、β‑环糊精0.2‑0.4份、无水乙醇20‑40份、氨水0.1‑0.2份、蒸馏水10‑20份。
地址 215000 江苏省苏州市高新区浒关工业园青花路6号标准厂房