| 发明名称 | 用于图案化晶片表征的方法与设备 | ||
| 摘要 | 本发明揭示用于表征半导体晶片上的多个所关注结构的设备及方法。从度量衡系统的一或多个传感器按多个方位角从特定所关注结构测量多个光谱信号。基于针对所述方位角而获得的所述光谱信号来确定光谱差值。基于分析所述光谱差值来确定及报告所述特定所关注结构的质量指示。 | ||
| 申请公布号 | CN105612601A | 申请公布日期 | 2016.05.25 |
| 申请号 | CN201480054194.1 | 申请日期 | 2014.08.05 |
| 申请人 | 科磊股份有限公司 | 发明人 | 撒迪厄斯·吉拉德·奇乌拉;史帝蓝·伊凡渥夫·潘戴夫;亚历山大·库兹涅佐夫;安德烈·V·舒杰葛洛夫 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 张世俊 |
| 主权项 | 一种表征半导体晶片上的多个所关注结构的方法，所述方法包括：从度量衡系统的一或多个传感器按多个方位角从特定所关注结构测量多个光谱信号；基于针对所述方位角而获得的所述光谱信号来确定光谱差值；及基于分析所述光谱差值来确定及报告所述特定所关注结构的质量指示。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||