发明名称 一种低W-W连接度W-Cu-Ni合金材料
摘要 本发明公开了一种低W-W连接度W-Cu-Ni的合金材料,其具体制备工艺为:用化学镀的方法在微米级钨粉表面镀镍包覆层,将表面包覆镍层的钨粉与铜粉配料、混合,再对混合均匀后的粉末进行放电等离子烧结(SPS),制备出具有高致密度的低W-W连接度W-Cu-Ni合金材料。其优点在于:1.镍包覆层能提高钨相与铜相的界面结合强度,并起到活化烧结,降低烧结温度的作用,同时有利于提高材料的致密度;2.通过本发明所述的制备方法能够制备出致密度在97.5%以上和W-W连接度小于30%的W-Cu-Ni合金材料,材料具有良好的拉伸力学性能。本发明所述的W-Cu-Ni合金材料具有优异的力学性能,适用于航空航天和兵器领域。
申请公布号 CN103418786B 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201310410517.3 申请日期 2013.09.10
申请人 北京理工大学 发明人 刘金旭;张鸿雁;王迎春;李树奎;郭文启;赵紫盈
分类号 B22F1/02(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I 主分类号 B22F1/02(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种低W‑W连接度W‑Cu‑Ni合金材料,其特征在于:W‑Cu‑Ni合金的成分按质量百分比计为:W含量65%,Cu含量25%,Ni含量10%或W含量80%,Cu含量15%,Ni含量5%;所制得的W‑Cu‑Ni合金的致密度在97.5%以上,W‑W连接度小于30%。
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