| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein EUV-Lithographiesystem, umfassend: eine erste Vakuum-Kammer (2a) und eine zweite Vakuum-Kammer (3a), zwischen denen ein röhrenförmiger Kanal (20) zum Durchtritt von EUV-Strahlung (6) gebildet ist, sowie eine Spüleinrichtung (21) mit mindestens einem Gas-Einlass (26, 27), der an einer Einlass-Öffnung (26a, 27a) in einer umlaufenden Wand (20a) des röhrenförmigen Kanals (20) mündet, um mindestens einen Spülgasstrom (22a, 22b) in den röhrenförmigen Kanal (20) einzulassen. Der mindestens eine Gas-Einlass (26, 27) mündet an seiner Einlass-Öffnung (26a, 27a) in einer Ebene (XY) senkrecht zur Längsachse (24) des röhrenförmigen Kanals (20) im Wesentlichen tangential zur umlaufenden Wand (20a) in den röhrenförmigen Kanal (20), um in dem röhrenförmigen Kanal (20) eine Wirbelströmung (28a, 28b) des Spülgasstroms (22a, 22b) zu erzeugen. |
