| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Stereolithographievorrichtung mit einer Wanne (2) zur Aufnahme von fließfähigem, photopolymerisierbarem Material, die wenigstens in einem für Belichtungen vorgesehenen Belichtungsgebiet einen transparenten Wannenboden (3) aufweist, einer unter der Wanne angeordneten Belichtungseinheit (8) zur Belichtung einer Fläche mit einer für die jeweils zu bildende Schicht vorgegebenen Kontur innerhalb des Belichtungsgebiets, einer über dem Wannenboden an einer Hebeeinrichtung (6) aufgehängten Bauplattform (4), an der anhängend die erste durch Belichtung ausgehärtete Schicht zu bilden ist, einer Steuereinheit, die dazu eingerichtet ist, sukzessive Belichtungen mit jeweils vorgegebener Kontur durch die Belichtungseinheit zu bewirken und die Stellung der Bauplattform über dem Wannenboden sukzessive jeweils nach dem Belichten einer weiteren Schicht anzupassen, und mit einer Heizeinrichtung zur Erwärmung des photopolymerisierbaren Materials in der Wanne, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizeinrichtung eine über dem Wannenboden eine wenigstens das Belichtungsgebiet vollflächig überdeckende transparente, elektrisch leitfähige Schicht (33) aufweist, die außerhalb des Belichtungsgebiets an gegenüberliegenden Seiten der Schicht mit über die gegenüberliegenden Seiten ausgedehnten elektrischen Kontaktie-rungen (20) versehen ist, die mit einem gesteuerten elektrischen Versorger verbunden sind, um durch Stromfluss durch die Schicht eine vollflächige Beheizung von photopolymerisierbarem Material über dem Wannenboden im Belichtungsgebiet zu ermöglichen. |
