一种用于薄膜晶体管的多晶硅激光退火方法

摘要

本发明涉及一种用于薄膜晶体管的多晶硅激光退火方法，其包括下列步骤：1.提供一基板，在该基板上形成一非晶硅薄膜；2.提供一准分子激光发生器，其能发射出脉冲激光束，该脉冲激光束照射该非晶硅薄膜形成一照射区域，使得该照射区域处于熔融状态；3.基板平移一扫描间距，准分子激光器再次射出一脉冲激光束，该扫描间距在平均扫描间距的0.8～1.2倍范围内变化，且前后两次的扫描间距差值在平均扫描间距的0.1倍范围内；4.重复步骤3，直到完成整个基板的激光照射。扫描间距在平均扫描间距的0.8～1.2倍范围内变化，且前后差值在平均值的0.1倍范围内，这样既抑制了容易在准分子激光退火工艺中的产生的显示不匀，又不会导致薄膜晶体管特性的差异过大，从而提升了显示质量。

主权项

一种用于薄膜晶体管的多晶硅激光退火方法，其包括下列步骤：(1)提供一基板，在该基板上形成一非晶硅薄膜；(2)提供一准分子激光发生器，其能发射出脉冲激光束，该脉冲激光束照射该非晶硅薄膜形成一照射区域，使得该照射区域处于熔融状态；(3)基板相对于准分子激光器平移一扫描间距，准分子激光器再次射出一脉冲激光束，该扫描间距是随机变化的，非固定值，该扫描间距在平均扫描间距的0.8～1.2倍范围内变化，且前后两次的扫描间距差值在平均扫描间距的0.1倍范围内：(4)重复步骤(3)，直到完成整个基板的激光照射。