发明名称 一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置
摘要 本发明公开了一种基板、基板制造方法、触摸屏和显示装置,包括衬底基板,还包括设置于衬底基板上的增透减反膜,所述的增透减反膜包括第一密实均质层、纳米多孔层和第二密实均质层,所述增透减反膜各层的材料均为SiO2。光经过纳米多孔层时,经多次反射而聚焦透射出去,达到减反射增透的目的。第一密实均质层的设置可以增强纳米多孔层的沉积效率与结合力,避免高温干燥处理时纳米多孔层脱落。第二密实均质层可以防止纳米多孔层表面吸附水分和灰尘造成盖板玻璃雾度增大。同时增透减反膜因各层折射率不同,调整各层厚度进行光学匹配,从而达到消影的效果。
申请公布号 CN105607158A 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201610006415.9 申请日期 2016.01.04
申请人 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 郭建东
分类号 G02B1/115(2015.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B1/115(2015.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种基板,其特征在于,包括衬底基板,还包括设置于衬底基板上的增透减反膜,所述的增透减反膜包括纳米多孔层。
地址 400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号