Use of a composition for forming p-type diffusion layer and method for forming p-type diffusion layer,申请号EP20110151993-传众专利搜索

发明名称	Use of a composition for forming p-type diffusion layer and method for forming p-type diffusion layer
摘要	The present invention is a use of an acceptor element-containing glass powder for forming a p-type diffusion layer on a semiconductor substrate.
申请公布号	EP2355137(B1)	申请公布日期	2016.05.25
申请号	EP20110151993	申请日期	2011.01.25
申请人	HITACHI CHEMICAL CO., LTD.	发明人	MACHII, YOUICHI;YOSHIDA, MASATO;NOJIRI, TAKESHI;OKANIWA, KAORU;IWAMURO, MITSUNORI;ADACHI, SHUUICHIROU
分类号	H01L21/22;H01L21/223;H01L21/225;H01L31/18	主分类号	H01L21/22
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