一种光栅结构透明导电薄膜的制备方法

摘要

本发明公开一种光栅结构透明导电薄膜的制备方法，采用脉冲宽度小于20ns、波长为400~1000nm的脉冲激光器，使脉冲激光器发出的激光束经透镜聚焦后的焦点位于M/TCO/玻璃透明导电薄膜的M层上方0~2.5mm处，控制激光能量为0.70~1.30J/cm²，扫描速度为5~20mm/s，激光束作单向逐线扫描，扫描线重叠率控制在50~70%，对M/TCO薄膜表面进行激光辐照处理，透明导电薄膜表面的晶体发生重结晶，表面被诱导出规则的光栅结构；过程操作简单，制备时间短，可控性好，不需要引入特殊的气体或液体介质等苛刻的环境条件，薄膜的光透过率得到了提高。

主权项

一种光栅结构透明导电薄膜的制备方法，其特征是依次采用以下步骤：（1）取大小为2.0 cm×2.0 cm玻璃基底，对其进行清洗和烘干；采用磁控溅射仪将TCO沉积在玻璃基底上得到TCO/玻璃；冷却至室温后溅射金属M层，获得M/TCO/玻璃；M为金属Pt、Au、Ag和Cu，TCO为ZnO、In₂O₃、SnO₂及其掺杂体系的膜材料；沉积TCO，磁控溅射仪的溅射电流150 mA，溅射时间为4~20分钟，溅射气体为氩气；溅射金属M层，磁控溅射仪的溅射电流为60~100 mA，溅射时间为2~10秒，溅射气体为氩气；（2）将M/TCO/玻璃放置在样品台上，采用脉冲宽度小于20 ns、波长为400~1000 nm的脉冲激光器，使脉冲激光器发出的激光束经透镜聚焦后的焦点位于透明导电薄膜的M层上方0~2.5 mm处，控制激光能量为0.70~1.30 J/cm²，扫描速度为5~20 mm/s，激光束作单向逐线扫描，扫描线重叠率控制在50~70%，对M/TCO薄膜表面进行激光辐照处理，透明导电薄膜表面的晶体发生重结晶，表面被诱导出规则的光栅结构；（3）取下激光辐照后的透明导电薄膜，清洗收干即可。