发明名称 一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法
摘要 本发明公开了一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。该吸收涂层从基底向外,依次为金属红外高反射层、吸收层、减反射层和保护层,其中吸收层由过渡金属氮氧化物Mo<sub>x</sub>Al<sub>1-x</sub>O<sub>y</sub>N<sub>1-y</sub>或W<sub>x</sub>Al<sub>1-x</sub>O<sub>y</sub>N<sub>1-y</sub>构成,其中,x=0.1-0.9,y=0.1-0.9。其制备方法,包括以下步骤:(1)采用直流磁控溅射法在基底表面制备金属红外高反射层;(2)采用Mo或W和Al纯金属靶,或者采用固定成分的MoAl或WAl靶,氩气、氮气和氧气气氛下共溅射形成吸收层;(3)选择Al靶,采用直流或中频磁控溅射法制备减反射层;(4)选择Si靶,采用直流或中频磁控溅射法制备保护层。本发明的吸收涂层具有光学性能优良、耐高温能力强、耐候性良好等特点,在制备工艺方面易于实现且调控简单,适用于平板集热器在我国的应用现状。
申请公布号 CN105605814A 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201410686903.X 申请日期 2014.11.25
申请人 北京有色金属研究总院 发明人 杜淼;郝雷;杨海龄;张子楠;余航;王笑静;于庆河;刘晓鹏;蒋利军
分类号 F24J2/48(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 主分类号 F24J2/48(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 刘秀青;熊国裕
主权项 一种太阳光谱选择性吸收涂层,其特征在于:从基底向外,依次为金属红外高反射层、吸收层、减反射层和保护层,其中吸收层由过渡金属氮氧化物Mo<sub>x</sub>Al<sub>1‑x</sub>O<sub>y</sub>N<sub>1‑y</sub>或W<sub>x</sub>Al<sub>1‑x</sub>O<sub>y</sub>N<sub>1‑y</sub>构成,其中,x=0.1‑0.9,y=0.1‑0.9。
地址 100088 北京市西城区新街口外大街2号