发明名称 |
激光照射装置 |
摘要 |
一种激光照射装置,用于将激光束照射到包括多个像素区的半导体层,所述装置包括:生成所述激光束的激光发生器;以及光学切换单元,对由所述激光发生器生成的激光束进行时分,并且将多个时分激光束发射到多个光学系统。所述装置包括:所述多个光学系统中的第一光学系统,接收第一时分激光束,并且沿第一照射方向照射第一激光狭缝束;以及所述多个光学系统中的第二光学系统,接收第二时分激光束,并且沿与所述第一照射方向平行的第二照射方向照射第二激光狭缝束。所述第一激光狭缝束和所述第二激光狭缝束使各像素区中相同位置处的部分区域晶体化。 |
申请公布号 |
CN102339739B |
申请公布日期 |
2016.05.25 |
申请号 |
CN201110195509.2 |
申请日期 |
2011.07.06 |
申请人 |
三星显示有限公司 |
发明人 |
李源规;崔宰凡;吴在焕;张荣真;陈圣铉 |
分类号 |
H01L21/268(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/268(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
罗正云;宋志强 |
主权项 |
一种激光照射装置,用于将激光束照射到包括多个像素区的半导体层,包括:生成所述激光束的激光发生器;光学切换单元,对由所述激光发生器生成的激光束进行时分,并且将多个时分激光束发射到多个光学系统,其中:所述多个光学系统中的第一光学系统接收第一时分激光束,并且沿第一照射方向照射第一激光狭缝束;所述多个光学系统中的第二光学系统接收第二时分激光束,并且沿与所述第一照射方向平行的第二照射方向照射第二激光狭缝束;并且所述第一激光狭缝束和所述第二激光狭缝束在无需同时照射的情况下使各像素区中相同位置处的部分区域晶体化。 |
地址 |
韩国京畿道 |