高对比度透射式硅基液晶微显示屏的制备方法

摘要

一种高对比度透射式硅基液晶微显示屏的制备方法，其特征是通过在微显示屏的透明硅基驱动背板反面，在像素的驱动单元和走线处，制作铬/氧化铬遮光线条，减少像素之间的发光串扰，提高显示屏的对比度。本发明通过制作遮光层一方面减少了像素间的光学串扰，提高了显示屏的对比度；另一方面遮光层避免了强背光源照射驱动像素单元的晶体管而导致晶体管性能劣化，提高了微显示驱动背板及显示屏的可靠性。

主权项

一种高对比度透射式硅基液晶微显示屏的制备方法，其特征是它包括以下步骤：1）选择SOI硅片作为驱动背板的制作基板，所述的SOI硅片由衬底硅层、二氧化硅绝缘层和器件硅层构成，器件硅层位于顶层，二氧化硅绝缘层位于衬底硅层和器件硅层之间；2）在器件硅层上制作IC驱动电路及像素单元晶体管电路，并在电路的底层金属布线层上加入光刻套刻标记，得到有源驱动背板；3）将有源驱动背板通过临时粘接胶与表面处理过的临时基板粘接；4）先通过机械减薄，再通过选择性刻蚀将衬底硅层去除掉；5）在露出的二氧化硅绝缘层上制备铬或氧化铬遮光层；6）通过光刻套刻及选择性刻蚀图形化遮光层，露出需要透光的部分，在对应像素单元之间形成遮光线条；7）将有源驱动背板转移到透明基板并且固定，去掉临时基板，形成有遮光功能的透明有源驱动背板；8）将有遮光功能的透明有源驱动背板和另外一块透明基板贴合，完成高对比度透射式硅基液晶微显示屏的制作。