| 发明名称 | 一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备，用以提供一种新型的用于放置衬底基板的下部电极基台，置于该下部电极基台上的衬底基板经干法刻蚀设备刻蚀后，可以避免衬底基板内部结构均匀性的破坏，避免显示器件发生印花(Embossing Mura)不良现象。所述干法刻蚀设备的下部电极基台，包括：第一基板以及位于第一基板上的多个支撑件；其中，所述支撑件的顶部材质至少包括树脂。 | ||
| 申请公布号 | CN103811332B | 申请公布日期 | 2016.05.25 |
| 申请号 | CN201410051082.2 | 申请日期 | 2014.02.14 |
| 申请人 | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 梁魁 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01J37/04(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种干法刻蚀设备的下部电极基台，其特征在于，包括：第一基板以及位于所述第一基板上的多个支撑件；其中，所述支撑件的顶部材质至少包括树脂；所述第一基板的表面为水平面；所述支撑件的形状为正立的锥形状；所述锥形状支撑件的侧表面设置有凹陷区域，所述凹陷区域的凹陷方向朝向所述支撑件的顶部，且与所述第一基板具有设定夹角；或，所述支撑件的顶部为具有至少一个呈针刺状的凸起结构；所述呈针刺状的凸起结构的支撑件的侧表面至少包括多个由所述支撑件的顶部延伸至底部的第一沟壑。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区经海一路118号 | ||