发明名称 电容器用双轴拉伸聚丙烯膜、金属化膜和膜电容器
摘要 本发明提供作为电容器用电介质的具有高耐电压性、适合的元件加工性优异的电容器用双轴拉伸聚丙烯膜。一种电容器用双轴拉伸聚丙烯膜,是在两面具有突起的电容器用双轴拉伸聚丙烯膜,厚度t1(μm)为4~20μm,在将一表面设为A面,将另一面设为B面时,满足下述式中的全部,800≤SRzB≤1300(nm)0.1≤SRzA/SRzB≤0.8PBmin≥100(nm)PBmax≤1500(nm)0.4≤PB450-750/PB≤0.7,其中,SRzA:A面的10点平均粗糙度(nm)SRzB:B面的10点平均粗糙度(nm)PBmin:B面的最小突起高度(nm)PBmax:B面的最大突起高度(nm)PB450-750:存在于B面的高度450nm以上且小于750nm的突起的每0.1mm<sup>2</sup>的总个数(个/0.1mm<sup>2</sup>)PB:存在于B面的突起的每0.1mm<sup>2</sup>的总个数(个/0.1mm<sup>2</sup>)。
申请公布号 CN103503094B 申请公布日期 2016.05.25
申请号 CN201180070198.5 申请日期 2011.04.19
申请人 东丽株式会社 发明人 中冢贵典;水岛正美;浅野哲也
分类号 H01G4/18(2006.01)I;B29C55/12(2006.01)I;B32B15/085(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I 主分类号 H01G4/18(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 段承恩;田欣
主权项 一种电容器用双轴拉伸聚丙烯膜,是在两面具有突起的电容器用双轴拉伸聚丙烯膜,厚度t1(μm)为4~20μm,在将SRz小的一侧的膜表面设为A面,将另一面设为B面时,满足下述式中的全部,800≤SRzB≤1300(nm)0.1≤SRzA/SRzB≤0.8PBmin≥100(nm)PBmax≤1500(nm)0.4≤PB450‑750/PB≤0.7其中,SRzA:A面的10点平均粗糙度(nm)SRzB:B面的10点平均粗糙度(nm)PBmin:B面的最小突起高度(nm)PBmax:B面的最大突起高度(nm)PB450‑750:存在于B面的高度450nm以上且小于750nm的突起的每0.1mm<sup>2</sup>的个数(个/0.1mm<sup>2</sup>)PB:存在于B面的突起的每0.1mm<sup>2</sup>的总个数(个/0.1mm<sup>2</sup>),PA和PB满足下述式,|PA-PB|≥200其中,PA:存在于A面的突起的每0.1mm<sup>2</sup>的总个数(个/0.1mm<sup>2</sup>)。
地址 日本东京都