| 发明名称 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示领域，能够将彩膜制作于阵列基板上，且减少构图次数，降低成本。本发明的阵列基板制备方法，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色。 | ||
| 申请公布号 | CN105607368A | 申请公布日期 | 2016.05.25 |
| 申请号 | CN201610006495.8 | 申请日期 | 2016.01.04 |
| 申请人 | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 余道平;金熙哲 |
| 分类号 | G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，其特征在于，所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色。 | ||
| 地址 | 400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号 | ||