发明名称 Optisches System zur Strahlformung
摘要 Ein optisches System (1) zur Strahlformung eines Laserstrahls (3) für die Bearbeitung eines insbesondere transparenten Materials (9) durch Modifizieren des Materials (9) in einer in Propagationsrichtung (5) langgezogenen Fokuszone (7) weist ein Strahlformungselement (31) auf, das dazu ausgebildet ist, den Laserstrahl (3) mit einem transversalen Eingangsintensitätsprofil (41) aufzunehmen und dem Laserstrahl (3) einen strahlformenden Phasenverlauf (43) über das transversale Eingangsintensitätsprofil (31) aufzuprägen. Das optische System (1) weist ferner eine Nahfeldoptik (33B) auf, die strahlabwärts mit einem Strahlformungsabstand (Dp) zum Strahlformungselement (31) angeordnet ist und die dazu ausgebildet ist, den Laserstrahl (3) in die Fokuszone (7) zu fokussieren, wobei der aufgeprägte Phasenverlauf (43) derart ist, dass dem Laserstrahl (3) ein virtuelles, vor dem Strahlformungselement (31) liegendes optisches Bild (53) der langgezogenen Fokuszone (7) zugeordnet ist. Des Weiteren entspricht der Strahlformungsabstand (Dp) einer Propagationslänge des Laserstrahls (3), in der der aufgeprägte Phasenverlauf (43) das transversale Eingangsintensitätsprofil (41) in ein transversales Ausgangsintensitätsprofil (51) an der Nahfeldoptik (33B) überführt, welches im Vergleich mit dem Eingangsintensitätsprofil (41) ein außerhalb einer Strahlachse (45) liegendes lokales Maximum (49) aufweist.
申请公布号 DE102014116957(A1) 申请公布日期 2016.05.19
申请号 DE201410116957 申请日期 2014.11.19
申请人 TRUMPF Laser- und Systemtechnik GmbH 发明人 Kumkar, Malte;Kleiner, Jonas;Großmann, Daniel;Flamm, Daniel;Kaiser, Myriam
分类号 G02B27/09;B23K26/064 主分类号 G02B27/09
代理机构 代理人
主权项
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