| 发明名称 |
調整可能な電極を有する堆積源 |
| 摘要 |
基板上に薄膜を堆積させる装置が記載される。この装置は、真空処理領域を通って基板を案内するための外面を有する基板支持体と、真空処理領域内で基板上に薄膜を堆積させる、電極を備えるプラズマ堆積源と、電極と外面との間の距離を調整するように構成されたアクチュエータとを含む。【選択図】図１３Ａ |
| 申请公布号 |
JP2016514198(A) |
申请公布日期 |
2016.05.19 |
| 申请号 |
JP20150555681 |
申请日期 |
2014.01.28 |
| 申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ |
发明人 |
ブッシュベック， ヴォルフガング;リース， フロリアン;ストーレイ， トビアス |
| 分类号 |
C23C16/52;C23C14/52;C23C14/54;C23C14/56;C23C16/50;C23C16/54;H01L21/203;H01L21/205;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/52 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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