SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS CHAMBER LID ASSEMBLY METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE AND PROGRAM STORING THE SAME

摘要

기판 재치부 외주의 열이 가스 분산 채널을 구성하는 벽에 흡수된다는 과제를 발견하였다. 그 결과, 기판 면내의 온도를 균일하게 하는 것이 곤란하였다. 제1 가열 수단을 포함하는 챔버 덮개 구조; 상기 챔버 덮개 구조에 근접하여 기판을 가열하기 위한 제2 가열 수단을 포함하는 기판 재치부; 상기 챔버 덮개 구조와 상기 기판 재치부로 적어도 구성되는 처리 용기; 및 상기 제2 가열 수단이 상기 기판 재치부를 가열할 때에 상기 제2 가열 수단으로부터의 열에너지가 상기 기판 재치부로부터 상기 챔버 덮개 구조에 열 전달되는 것을 억제하도록 상기 제1 가열 수단을 제어하는 제어부;를 포함한다.