发明名称 |
晶片接合机 |
摘要 |
本发明提供一种晶片接合机,该晶片接合机用以接合两个以上的半导体晶片,包括一壳体、一主工艺腔室以及一第一腔室。前述主工艺腔室以及第一腔室设置于壳体内部,且主工艺腔室连接第一腔室,其中前述晶片于第一腔室内被气体吹净,且前述晶片于主工艺腔室内受一外力作用并相互接合。本发明借由在晶片接合机内部配置多个腔室,当欲执行不同的工艺步骤时,仅需通过机械手臂或输送系统将晶片移动至不同的腔室中进行即可,借此能大幅缩短工艺时间并提高晶片接合机每小时的晶片产出量。 |
申请公布号 |
CN102237285B |
申请公布日期 |
2016.05.18 |
申请号 |
CN201010167364.0 |
申请日期 |
2010.04.20 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
刘丙寅;朱立晟;林宏桦;谢元智;陈相甫;赵兰璘;蔡嘉雄;郑钧文 |
分类号 |
H01L21/50(2006.01)I;B81C3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律师事务所 11306 |
代理人 |
陆鑫;高雪琴 |
主权项 |
一种晶片接合机,用以接合两个以上的晶片,包括:一壳体;一第一腔室,设置于该壳体内部,其中多个晶片于该第一腔室内被一第一气体吹净;以及一主工艺腔室,设置于该壳体内部,并且通过第一通道连接该第一腔室,其中所述多个晶片于该主工艺腔室内受一外力作用并相互接合,其中该晶片接合机还包括一第二腔室,该第二腔室通过第二通道连接该主工艺腔室,且所述多个晶片于该第二腔室内被加热,并且其中该第二腔室通过第三通道连接该第一腔室,该晶片接合机还包括一第三腔室,该第三腔室连接该主工艺腔室和该第二腔室,且所述多个晶片于该第三腔室中被冷却,并且该晶片接合机还包括一第四腔室,该第四腔室连接该主工艺腔室、该第一腔室和该第三腔室,且所述多个晶片于该第四腔室内进行表面处理。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |