一种可控增透限幅的MoS₂纳微薄膜及其制备方法

摘要

一种可控增透限幅的MoS₂纳微薄膜及其制备方法，所述MoS₂纳微薄膜表面平整，厚度150～300nm，在400～810nm波段，光强0～150GW/cm²，归一化透过率为73.9～105%；随着波长增加，最大归一化透过率出现的光强不断降低。所述制备方法是将MoS₂粉末与四氢呋喃溶液混合，密封，搅拌，得MoS₂-四氢呋喃悬浮溶液；然后将其密封，离心，移取中层溶液，得宽度为10～15μm的MoS₂-四氢呋喃悬浮溶液；再将其甩膜，烘干，得MoS₂纳微薄膜。本发明方法稳定性好，简单易行，成本低廉，便于大批量工业生产，制得的MoS₂纳微薄膜可作为一种对光的波长有选择性光增透限幅效应的材料。

主权项

一种可控增透限幅的MoS₂纳微薄膜，其特征在于：所述MoS₂纳微薄膜在400～810nm波段，光强大小0～150GW/cm²条件下，归一化透过率为73.9～105%；其中，73.9%＜归一化透过率＜100%为限幅区间，100%＜归一化透过率＜105%为增透区间；归一化透过率最大时的光强大小为0.2～10GW/cm²。