发明名称 多区域气体注入上电极系统
摘要 一种等离子体处理的系统和方法,该系统和方法包括等离子体处理系统,该等离子体处理系统包括等离子体室和耦联到所述等离子体室的控制器。所述等离子体室包括衬底支撑件和与所述衬底支撑件相对的上电极,所述上电极具有多个同心气体注入区域。
申请公布号 CN104024477B 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201280057644.3 申请日期 2012.11.16
申请人 朗姆研究公司 发明人 赖安·拜斯;拉金德尔·迪恩赛;阿列克谢·马拉赫塔诺夫;李路民;南尚基;吉姆·罗杰斯;埃里克·赫德森;格拉尔多·德尔加迪诺;安德鲁·D·贝利三世;迈克·凯洛格;安东尼·德拉列拉;达雷尔·埃利希
分类号 C23F1/08(2006.01)I 主分类号 C23F1/08(2006.01)I
代理机构 上海胜康律师事务所 31263 代理人 李献忠
主权项 一种等离子体处理系统,其包括:等离子体室,其包括:衬底支撑件;和与所述衬底支撑件相对的多区域气体注入上电极,所述多区域气体注入上电极包括内部电极、围绕所述内部电极的外部电极以及将所述内部电极和外部电极分隔开的绝缘体,所述多区域气体注入上电极包括气体分配板和绝缘板,所述气体分配板安装在所述绝缘板上并且所述内部电极安装在所述气体分配板上,所述多区域气体注入上电极包括内部加热器和外部加热器,所述内部加热器设置在所述绝缘板、所述气体分配板和所述内部电极的上方,并且所述外部加热器设置在所述外部电极的上方,并且所述多区域气体注入上电极具有多个同心气体注入区域,所述多个同心气体注入区域中的每一个包括多个排出口;以及控制器,其耦联到所述等离子体室。
地址 美国加利福尼亚州