发明名称 |
压印系统及物品的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种压印系统及物品的制造方法。所述压印系统包括:处理单元,其被构造为进行压印处理,所述处理单元包括被构造为向基板上供给压印材料的液滴的分配器;库,其被构造为管理不同的多个配给图,所述多个配给图各自表示要从所述分配器供给到所述基板上的液滴的供给位置和供给量中的至少一者;以及控制单元,其被构造为基于关于由模具和所述分配器中的至少一者随时间的改变而导致的所述压印处理的结果的改变的信息,从在所述库中管理的所述多个配给图中,选择要在所述压印处理中使用的一个配给图。 |
申请公布号 |
CN105589296A |
申请公布日期 |
2016.05.18 |
申请号 |
CN201510736950.5 |
申请日期 |
2015.11.03 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
山崎拓郎;船吉智美;山口裕充;藤本正敬 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 |
代理人 |
迟军 |
主权项 |
一种压印系统,其进行通过使用模具来使基板上的压印材料形成图案的压印处理,所述压印系统包括:处理单元,其被构造为进行所述压印处理,所述处理单元包括被构造为向所述基板上供给所述压印材料的液滴的分配器;库,其被构造为管理不同的多个配给图,所述多个配给图各自表示要从所述分配器供给到所述基板上的液滴的供给位置和供给量中的至少一者;以及控制单元,其被构造为基于关于由所述模具和所述分配器中的至少一者随时间的改变而导致的所述压印处理的结果的改变的信息,从在所述库中管理的所述多个配给图中,选择要在所述压印处理中使用的一个配给图。 |
地址 |
日本东京都大田区下丸子3-30-2 |