ALD设备及应用于ALD设备的反应源扩散分布检测与控制方法

摘要

本发明公开了一种ALD设备及应用于ALD设备的反应源扩散分布检测与控制方法。ALD设备包括盖板和与盖板配合的主体腔室，盖板的内表面设置有至少两个气路单元组，每个气路单元组包括至少一个气路单元，该至少两个气路单元组用于通入不同的反应源气体；每个气路单元包括第一气流通道、第一间隔层、第二气流通道、第二间隔层；第一气流通道用于通入反应源气体；第二气流通道用于将未发生反应的反应源气体抽出；第一间隔层设于第一气流通道与第二气流通道之间，第二间隔层设于第二气流通道和第三气流通道之间。本发明能够提高原子层外延的速度，节省单项工艺时间，调节原子层外延的生长速率。

主权项

一种ALD设备，包括盖板和与盖板配合的主体腔室，其特征在于，所述主体腔室中具有承载盘，其用于承载需要进行ALD工艺的元器件；所述盖板的内表面设置有至少两个气路单元组，每个气路单元组包括至少一个气路单元，该至少两个气路单元组用于通入不同的反应源气体；所述每个气路单元包括多个气流通道，多个气流通道通过间隔层相间隔，且每个气流通道与盖板的外表面上设置的气孔相连通；一个气路单元组中的进气口通入水蒸气或含有水蒸气的混合气体，没有通入水蒸气的气路单元组中的至少有一个气路单元的抽气通过管道连接露点仪；通入含水蒸气的气路单元组中的任何一个气路单元的进气管道和抽气管道都不与上述露点仪连接。