发明名称 LASER APPARATUS PHOTOTHERAPY APPARATUS EXPOSURE APPARATUS DEVICE MANUFACTURING METHOD AND OBJECT INSPECTION APPARATUS
摘要 기본 파장광 생성 유닛은, 레이저 장치 (1) 의 출력광의 파장을 지령하는 출력 파장 명령 신호에 응한 기본 파장의 광을 생성한다. 광증폭기 유닛 (20) 은 상기 기본 파장의 광을 증폭한다. 파장 변환부 (30) 는, 각각이 파장 변환을 실시하는 비선형 광학 결정 (31, 32, 34, 37, 39, 40) 으로 그것들을 각각 조정하는 온도 조정기 (31a, 32a, 34a, 37a, 39a, 40a) 를 가지므로, 광증폭기 유닛 (20) 에 의해 증폭된 광을 출력 파장 명령 신호가 나타내는 파장의 광으로 변환한다. 저장 유닛 (60) 는, 출력 파장 명령 신호가 나타내는 파장과 그 파장에 따라 설정해야 할 각 비선형 광학 결정의 온도와의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억한다. 제어 유닛은, 각 온도 조정기를, 해당 온도 조정기에 대응하는 상기 비선형 광학 결정의 온도가, 출력 파장 명령 신호에 따라 상기 대응 정보에 의해 정해지는 설정해야 할 온도가 되도록 제어한다.
申请公布号 KR101618392(B1) 申请公布日期 2016.05.18
申请号 KR20117010638 申请日期 2009.10.07
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 다카다 야스토시;도쿠히사 아키라
分类号 G02F1/39;H01S3/10 主分类号 G02F1/39
代理机构 代理人
主权项
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