发明名称 一种可调制多层复合薄膜的制备方法
摘要 本发明公开了一种可调制多层复合薄膜的制备方法,首先将需要制备薄膜层的基片抛光,并经超声清洗后烘干预处理;将处理后的基片置于溅射室内,先进行打底层溅射,再进行复合层循环交替溅射;溅射完成后,待所述溅射室自然冷却至室温,得到所述可调制多层复合薄膜。上述制备方法工艺简单,沉积过程易于控制,薄膜沉积后无需进行热处理、二次加工,可直接作为机械零部件表面的润滑抗微动磨损防护薄膜使用。
申请公布号 CN105586573A 申请公布日期 2016.05.18
申请号 CN201510989622.6 申请日期 2015.12.24
申请人 北京矿冶研究总院 发明人 刘安强;袁建鹏;沈婕;侯伟骜
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人 郑立明;陈亮
主权项 一种可调制多层复合薄膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括:将需要制备薄膜层的基片抛光,并经超声清洗后烘干预处理;将处理后的基片置于溅射室内,先进行打底层溅射,再进行复合层循环交替溅射;其中,所述打底层溅射包括:将溅射室抽真空至3.0×10<sup>‑3</sup>Pa以下,通入氩气并控制压强在0.3~0.8Pa,开直流溅射电源,溅射功率为50~150W,沉积时间为10~30min,在所述基片上直流溅射沉积纯钛靶,制备出厚度约为10~20nm的打底层;所述复合层循环交替溅射包括:在氩气环境下控制压强在0.5~1Pa范围内,分别设置3个溅射靶为CuNiIn靶、MoS<sub>2</sub>靶和Ti靶;先开启所述CuNiIn靶,沉积20~60min后关闭所述CuNiIn靶,然后再同时开启所述MoS<sub>2</sub>靶和Ti靶,沉积时间为15~50min;完成上述沉积过程为1个循环,总共沉积5~40个循环实现复合层循环交替溅射;溅射完成后,待所述溅射室自然冷却至室温,得到所述可调制多层复合薄膜。
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